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帯電ミストを用いた粉じん除去工法(CG-220013-A)

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電荷を帯びたミストを噴霧し粉じん濃度を低下させる工法

開発会社:戸田建設株式会社,有光工業株式会社,株式会社マシノ
区  分:工法
NETIS登録技術
本技術は、建設工事現場で発生する粉じんが正(+)または(-)に帯電している性質に着目し、粉じんとは逆の電荷を帯びたミストを噴霧し、粉じん濃度を低下させる技術で、従来は手作業で水を噴霧していた。本技術の活用により作業環境の向上が期待できる。

※このデータは下記ホームページを引用しています。
「NETIS ホームページ」 https://www.netis.mlit.go.jp/ 国土交通省

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