電荷を帯びたミストを噴霧し粉じん濃度を低下させる工法
開発会社：戸田建設株式会社 , 有光工業株式会社 , 株式会社マシノ
区 分：工法
NETIS登録技術
本技術は、建設工事現場で発生する粉じんが正(＋)または(－)に帯電している性質に着目し、粉じんとは逆の電荷を帯びたミストを噴霧し、粉じん濃度を低下させる技術で、従来は手作業で水を噴霧していた。本技術の活用により作業環境の向上が期待できる。
※このデータは下記ホームページを引用しています。
「NETIS ホームページ」 https://www.netis.mlit.go.jp/ 国土交通省
